Pengaruh pH Surface Conditioning dan Konsentrasi Phosphating Terhadap Berat Lapisan dan Ukuran Partikel

Abstract

Pada umumnya masalah phosphating muncul setelah larutan digunakan beberapa hari. pH dari surface conditioning akan turun karena kontaminan yang terbawa dari air bilas sebelumnya yang memiliki pH 4-5. Sementara itu penambahan chemical surface conditioning tidak dapat menjaga pH
karena pH maksimal yang dihasilkan adalah 9. Penambahan senyawa basa sebagai pH adjuster diharapkan mampu mempertahankan kestabilan proses, sampai larutan koloid surface conditioning menjadi jenuh. Dengan menjaga pH 8-10 diharapkan kecepatan reaksi dapat dipertahankan sehingga tampilan dan berat lapisan masih terjaga. Sedangkan untuk pengaturan ukuran partikel harus ditambahkan senyawa koloidal Titanium karena peningkatan pH akan memperbesar ukuran partikel. Jika ukuran partikel tidak dikendalikan ditakutkan dapat menurunkan daya rekat cat terhadap logam. Pada penelitian ini divariasikan pH surface conditioning dan konsentrasi pada proses phosphating dengan harapan bisa diketahui pengaruhnya terhadap berat lapisan dan ukuran partikel sehingga bisa merekomendasikan treatment yang tepat untuk mendapatkan hasil pelapisan yang optimal