USULAN PENJADWALAN PRODUKSI VULKANISIR MASAK DINGIN GUNA MEMINIMALKAN MAKESPAN DENGAN METODE CDS DAN IS DI PT.NUANSA BARU LAWANG MALANG

  • Kariska Argiati Haningrum Teknik Industri ITN Malang
Keywords: Makespan, Ignall-Scharge, dan Campbell Dudeck Smith

Abstract

Suatu perusahaan didirikan tentu dengan tujuan untuk  memperoleh  profit dari proses yang akan dilakukan oleh perusahaan tersebut. PT. NUANSA BARU merupakan perusahaan yang bergerak dalam bidang vulkanisir ban .Perusahaan  memproduksi 2 jenis ban vulkanisir yaitu masak dingin dan masak panas .  Perusahaan menerapkan  sistem  penjadwalan  FCFS (First Come First Served) yaitu job yang pertama kali datang yang pertama kali dilayani tetapi dalam  memenuhi  permintaan dari konsumen dirasa kurang efisien karena masih ada beberapa job yang tidak dapat diselesaikan dalam waktu yang diinginkan oleh pemesan (customer) dan juga proses produksi menggunakan mesin yang sama secara bergantian  untuk menyelesaikan 2 jenis ban, sehingga waktu pengiriman terlambat. Berdasarkan permasalahan tersebut menyebabkan makespan produksi yang berlebih ,maka perlu adanya suatu sistem penjadwalan yang baik. Penjadwalan produksi untuk menghitung nilai makespan dengan menggunakan dua (2)  metode antara lain Ignall-Scharge, dan Campbell Dudeck Smith. Berdasarkan penelitian maka dapat diperoleh: Penjadwalan yang optimal atau hasil makespan minimum yaitu dengan menggunakan Metode CDS. Dengan urutan pengerjaan produk job yaitu ban bis kemudian  ban truk dengan makespan 53020.83  menit, karena makespannya lebih kecil dibandingkan kondisi riil perusahaan yaitu sebesar 74058.62  menit, Dengan efesiensi persentase penghematan makespan sebesar 35 % dari kondisi semula menggunakan Metode Campblle Dudek Smith.

Downloads

Download data is not yet available.
Published
2019-12-26
How to Cite
HaningrumK. A. (2019). USULAN PENJADWALAN PRODUKSI VULKANISIR MASAK DINGIN GUNA MEMINIMALKAN MAKESPAN DENGAN METODE CDS DAN IS DI PT.NUANSA BARU LAWANG MALANG. Jurnal Valtech, 2(2), 80-87. Retrieved from https://ejournal.itn.ac.id/index.php/valtech/article/view/1489